Расчет и нанесение базисных линий

на условную развертку боковой

поверхности колодки

Базисные линии — это проекции поперечных сечений стопы, проходящие через наиболее характерные анатомические точки. Система базисных линий разработана в нашей стране в 1936 г. на основе изучения размеров стоп населения и служит для обоснованного построения деталей (контуров) верха и низа обуви с учетом анатомо-физиологического строения стопы.

Несмотря на ряд недостатков, система базис­ных линий широко используется при модели­ровании большинства видов обуви по копировально-графической системе. Одновре­менно базисные линии служат для определения линий, позволяющих контролировать характерные конструктивные точки создаваемых моделей. Система контрольных линий разрабатывается на основе опыта и анализа чертежей действующих в производстве моделей обуви с учетом технических и технологических особенностей.

Существует пять базисных линий, определяющих положение анатомических точек от наиболее выпуклой точки пяточного контура условной развертки колодки. Расстояние до базисных линий определяется соответствующим коэффициентом в зависимости от длины условной развертки без декоративного припуска в носочной части.

Базисная линия 1 (см. рис. III. 20, д) находится на расстоянии 0,23 L_УPK от наиболее выступающей точки пяточного закругление шаблона УРК до центра наружной лодыжки на плоскости чертежа, где L_УPK — длина условной развертки колодки по геодезическое линии НН_в.

Базисная линия II находится на расстоя­нии 0,41 L_УPK от наиболее выступающей точки пяточного закругления шаблона УРК до сгиба стопы в голеностопном суставе. Базисная линия III находится на рас­стоянии 0,48 L_УPK от наиболее выступающей точки пяточного закругления шаблона УРК до середины стопы.

Базисная линия IV находится на расстоянии 0,68 L_УPK от наиболее выступающей точки пяточного закругления шаблона УРК до центра головки большого пальца в плюсне-фаланговом сочленении — внутреннего пу­чка.

Базисная линия V находится на расстоянии 0,78 L_УРК от наиболее выступающей точки пяточного закругления шаблона УРК до конца пятого пальца (мизинца).

Для нанесения базисных линий на чертеже проводятся дополнительные оси координат Х'О'У. Ось О'Х' является продолжением линии В'_КП; ось О'У — касательная к наи­более выступающей точке Н_в пяточного закругления шаблона УРК под прямым углом к оси О'Х' (см. рис. III. 20, а). Все рас­стояния до базисных линий откладываются от точки О' по оси О'Х'. Через полученные точки проводятся базисные линии перпенди­кулярно линии О'Х' до пересечения с верх­ним контуром шаблона. Полученные базис­ные линии с чертежа наносятся на шаблон. Пяточный контур деталей верха проекти­руется относительно развернутого контура шаблона УРК и точки В_к. Чтобы не загромождать чертеж, шаблон можно вписы­вать сразу в развернутом виде, т. е. через точки В'_к и Н (см. рис. III. 20, д). Для этого после нанесения базисных линий шаблон удерживается в точке К (верхнее положение базисной линии IV) и поворачивается в первоначальное положение для фиксирования только пя точно-геленочного (по следу) и носочного контуров, необходимых для построения чертежа деталей верха обуви.