21.7. Электронно-лучевая обработка

Метод основан на использовании энергии сфокусированного электронного луча для обработки твёрдых материалов посредством их местного плавления. В вакууме создаётся импульсный электронный луч с частотой 1…3000 Гц и временем импульсов 0,00005 с при скорости электронов 115000…165000 км/с, с температурой в зоне обработки около 6000 С⁰.

Электронно-лучевая установка состоит из:

- источника питания;

- вакуумной системы;

- блока управления;

- электронной пушки.

Электронная пушка (рис. 21.5) состоит из термоэлектронного катода, уп-

Рис. 21.5. Схема электронной пушки

равляющего электрода 1, импульсного генератора (модулятора) 2, электромагнитного регулирующего устройства 3, магнитной линзы 4 и отклоняющей системы 5. Импульсный генератор 2 обеспечивает прерывистость электронного луча для ограничения нагрева зоны обработки, а электромагнитное регулирующее устройство 3 стабилизирует его. Магнитная линза 4 фокусирует луч до необходимого диаметра на поверхности заготовки (минимальный диаметр достигает 0,01 мм), а отклоняющее устройство 5 перемещает луч по обрабатываемой поверхности.

Производительность метода очень велика. Например стальной лист толщиной 1 мм режется со скоростью до 1200 мм/мин.