1.7 Выращивание монокристаллов
Назначение - получение монокристаллического германия с определенными электрофизическими параметрами.
Исходное сырье:
германий зонноочищенный протравленный, однородного типа проводимости с удельным сопротивлением выше 47 Ом•см при температуре 20°С;
для выращивания монокристаллов германий зонноочищенный от корольков восстановления с удельным сопротивлением 47 Ом•см при 20°С и 200 Ом•см при температуре 60°С;
обороты выращивания протравленные (лепешки, обрезки монокристаллов);
легирующие добавки: германий-сурьма, германий-галлий, фосфор;
затравки монокристаллические протравленные, ориентированные в требуемом кристаллографическом направлении с точностью ± 1°С.
Заготовки, из которых вырезаются затравки, не должны содержать дислокаций более 2•104 см-2, малоугловых границ и скоплений дислокаций.
Выращивание монокристаллов германия осуществляется в печах типа Редмет-1, 4, 8, 10.
На процесс и результаты выращивания оказывают влияние следующие основные факторы: температура расплава, скорость выращивания к ее стабильности, отсутствие вибраций узлов печи, скорость вращения затравки и тигля, степень предварительного вакуумирования, давление инертного газа в печи.
Процесс выращивания проводят из расплава германия в атмосфере аргона на монокристаллическую затравку. Подготовленную загрузку германия массой 2-8 кг и легирующую добавку с помощью беззольных фильтров помещают в тигель. Печь закрывают, вакуумируют до давления 1•10 мм рт. ст (натекание не более 10 микрон/мин), затем печь заполняют аргоном до давления 0,05 атм. При плавлении давление возрастает. Необходимо следить, чтобы оно было в пределах 0,2 атм.
После расплавления металла включают вращение тигля и затравки. Скорость вращения тигля и затравки задаются отдельно для каждой марки в пределах: тигля 3-18 об. /мин., затравки 20-100 об. /мин., скорость подъема программируется от 2,4 до 0,8 мм/мин., или поддерживается постоянной в пределах 0,2-2,3 мм/минут.
Для выращивания монокристалла затравку опускают в расплав на 1-2 мм, подплавляют, включают механизм подъема затравки и слиток плавно выводят на диаметр нужной величины. В конце процесса кристалл отрывают от расплава и поднимают на расстояние 2-3 см от уровня расплава.
Монокристалл выгружают из печи не ранее, чем через 5 часов после отключения нагрева печи. Через девять плавок или по мере загружения лепешку выгружают и травят. После 25 плавок лепешку от получения рядовых марок выводят из процесса на зонную очистку.
Далее будет рассмотрена разработка АСУ процессом очистки технического тетрахлорида германия (ТХГ) дистилляцией.
- Введение
- 1. Технология процесса получения полупроводникового германия
- 1.1 Технологическая схема процесса и общий принцип получения полупроводникового германия
- получение технического тетрахлорида германия из германиевых концентратов;
- 1.2 Получение технического тетрахлорида германия из германиевых концентратов
- 1.3 Очистка технического тетрахлорида германия
- 1.3.1 Очистка технического тетрахлорида германия дистилляцией
- 1.3.2 Очистка технического тетрахлорида германия экстракцией
- 1.3.3 Очистка технического тетрахлорида германия ректификацией
- 1.4 Гидролиз тетрахлорида германия
- 1.5 Восстановление диоксида германия
- 1.6 Зонная очистка
- 1.7 Выращивание монокристаллов
- 2. Автоматизация процесса дистилляции тетрахлорида германия
- 2.1 Описание куба-испарителя как объекта управления
- 2.2 Выбор и обоснование контролируемых и регулируемых параметров
- 2.3 Выбор и обоснование приборов и средств автоматизации для АСУ ТП дистилляции тетрахлорида германия
- 2.4 Выбор микропроцессорного контроллера для АСУ ТП дистилляции тетрахлорида германия
- 2.5 Выбор ЭВМ для АСУ ТП дистилляции тетрахлорида германия
- 3.5.10.2. Очистка от примесей
- 3.5.10.3. Получение чистого диоксида германия
- Дистилляция.
- Принцип процесса ректификафии
- Простые полупроводники Германий Ge
- Основные условия осуществления ректификации
- Ректификационная очистка тетрахлорида титана технического
- 14.2.3. Германий
- 14.3.2.3. Галогениды германия