3.2 Технологический цикл нанесения покрытий
В качестве образцов для данного эксперимента использовали 12 трубок из конструкторской стали со средней длиной l=10 мм, внешним диаметром Dобр=6мм и внутренним dобр=3,7мм, закреплены на шпильке диаметром Dш=3мм и зажаты гайками с двух сторон.
Технологический цикл эксперимента:
1. Очистка образцов в ультразвуковой ванне (t=30мин).
2. Измерение массы образцов.
3. Ионная чистка образцов (t=20мин).
Устанавливаем образцы в вакуумную камеру и откачиваем до предельного давления P=2·10-5 Торр. Задаём поток аргона QAr=20 мл/мин, давление 10-3 Торр. Включаем ионные источники с током Ii=0,4А и задаем напряжение смещения U=1кВ. Экран закрывает мишени.
4. Чистка мишеней (t=2мин).
Устанавливаем поток аргона QAr=45 мл/мин, давление P=2,2·10-3 Торр. Включаем магнетроны с током Im=200 мА. Экран закрывает мишени.
5. Охлаждение образцов в вакууме (t=20 мин).
Давление остаточного газа P=210-5 Торр.
6. Контрольное измерение массы образцов для определения количества распылённого материала. После чего повторяем предыдущие этапы цикла (ионную чистку образцов и чистку мишеней).
7. Нанесение покрытия (t=60мин).
Устанавливаем потоки газов: QAr=28,8 мл/мин, QN2=6,2 мл/мин. Напряжение смещение задаем U=100В. Открываем экран. Ток магнетронов и источников ионов 0,4 200.
8. Охлаждение образцов в вакууме (t=40 мин).
Давление остаточного газа P=210-5 Торр.
9. Контрольное измерение массы образцов для определения массы напыленного материала.
- Введение
- 1. Физические основы метода
- 1.1 Метод магнетронного напыления покрытий с ионным ассистированием
- 1.2 Ионная очистка
- 2. Расчет распределения толщины покрытия по поверхности образцов
- 3. Методика эксперимента
- 3.1 Описание установки
- 3.2 Технологический цикл нанесения покрытий
- 3.3 Результаты и их обсуждение
- Заключение
- Магнетронное распыление-напыление
- 3.4.1 Вакуумное напыление в микроэлектронике
- Методы нанесения покрытий из парогазовой фазы
- 44. Магнетронное распыление
- 2. 7. Магнетронное распыление.
- Методы нанесения покрытий из парогазовой фазы
- 1.2 Ионно-плазменные методы нанесения пленок
- 4.3. Магнетронное распыление